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失效分析不再難,蔡司Gemini技術(shù)助您成為半導(dǎo)體專(zhuān)家

更新時(shí)間:2024-07-23      點(diǎn)擊次數(shù):548

一、高襯度的低電壓VC(voltage contrast)成像

蔡司Gemini電子光學(xué)技術(shù)擁有優(yōu)異的低電壓成像能力,能獲得準(zhǔn)確的電壓襯度(PVC)圖像,用于快速的失效定位。

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▲ SRAM區(qū)域的電壓襯度圖像

二、有利于電性表征的不漏磁光學(xué)系統(tǒng)

蔡司Gemini鏡筒可實(shí)現(xiàn)不漏磁的超低電壓成像,是納米探針(nanoprobing)測(cè)試的理想平臺(tái)。具備3nm制程的測(cè)試能力,且能實(shí)現(xiàn)低至100eV的SEM實(shí)時(shí)成像,極大地降低電子束輻照損傷。

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▲ 80V加速電壓下成像,SRAM區(qū)域和八根納米探針


三、創(chuàng)新的探測(cè)器技術(shù)提升速度、分辨率和襯度

   亞表面結(jié)構(gòu)的觀察和快速導(dǎo)航需要高掃描速度、高分辨、高信噪比的高電壓成像。蔡司高速背散射電子探測(cè)器(Rapid BSD)滿足了這類(lèi)使用需求。

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▲ 5nm FinFET的背散射電子圖像

四、超大視野的高分辨成像

在大面積成像中實(shí)現(xiàn)精度和效率的兼顧需要大視野無(wú)畸變成像的能力,Gemini鏡筒的設(shè)計(jì)提供了12mm的觀察視野最大32k x 24k像素的分辨率,可以實(shí)現(xiàn)單張圖片的大視野高分辨,也可使用自動(dòng)的拍圖拼圖工作流程進(jìn)一步提升效率。

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▲ 2.5D封裝截面,單張圖大視野成像

五、穩(wěn)定性和易用性

改變電壓、束流時(shí)保持聚焦和視野的一致性能顯著提高日常FA工作的效率,蔡司Gemini鏡筒的穩(wěn)定性更好地實(shí)現(xiàn)了這一特點(diǎn)。

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▲ 切換電子束加速電壓時(shí)圖像變化

六、為半導(dǎo)體應(yīng)用專(zhuān)用定制的軟件解決方案

蔡司Solutions Lab可為半導(dǎo)體用戶快速開(kāi)發(fā)專(zhuān)用于特定場(chǎng)景的定制化解決方案,無(wú)論是自動(dòng)化工作流程、AI助力的特征識(shí)別、分割、導(dǎo)航、量測(cè)或數(shù)據(jù)管理,我們都能為您提供專(zhuān)業(yè)支持。利用蔡司顯微鏡的潛力,更高效獲得所需的數(shù)據(jù)。

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▲ 使用可視化編程工具實(shí)現(xiàn)電鏡的自動(dòng)化工作流程

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